Las Inscripciones estarán abiertas hasta el 15 de noviembre del presente año
 
Por segundo año consecutivo, el Instituto Nacional de Defensa de la Competencia y de la Protección de la Propiedad Intelectual, invita a los sectores creativos relacionados al diseño de modas a participar del concurso cuya temática es: ‘Revaloración de la Cultura Peruana en las nuevas tendencias de Diseño de Modas 2019’. 
 
gamarra 3er
 
Este certamen se realizará con la finalidad de difundir la importancia que el Derecho de Autor brinda a las obras de arte aplicado, bien sean obras de artesanía u obras producidas a escala industrial, que se encuentren vinculadas al diseño de modas y que posean motivos que reflejen nuestra identidad cultural. 
 
Los interesados podrán participar en cualquiera de las dos categorías del diseño de modas: 
 
Indumentaria: masculina y femenina.
Accesorios o complementos: como calzado, bolsos, joyería, bisutería, lentes, sombreros, entre otros. 
 
Estas propuestas deben ser originales, poseer funcionalidad y esencialmente deben contener motivos pertenecientes a la cultura peruana, sean estas expresiones tradicionales o modernas (fusión) de cualquier región del país. Adicionalmente, se valorará que la producción de la creación contribuya a la sostenibilidad ambiental y si surge en un contexto de responsabilidad social. 
 
La institución reconocerá a los creadores que ocupen los tres primeros lugares con trofeos y diplomas y asumirá el pago de la tasa correspondiente al registro de la obra artística y arte aplicado ante la Dirección de Derecho de Autor. Además, serán premiados con becas de estudio otorgadas por prestigiosas entidades. 
 
Las bases se encuentran en este enlace: https://cutt.ly/ceyF5B0
 
Para recibir más información y detalles del certamen, los interesados pueden llamar al teléfono (01)2247800, anexo: 3714 o 3719. También pueden escribir al correo electrónico: Esta dirección de correo electrónico está siendo protegida contra los robots de spam. Necesita tener JavaScript habilitado para poder verlo.